氧化物薄膜具有優(yōu)越的機(jī)械、光學(xué)性能以及良好的環(huán)境穩(wěn)定性, 被廣泛應(yīng)用于可見近紅外波段制備各種低損耗光學(xué)薄膜.

某國(guó)內(nèi)精密光學(xué)薄膜制造商為了獲得品質(zhì)良好的Al₂O₃ 薄膜, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380 和考夫曼離子源 KDC100 輔助濺射鍍制 Al₂O₃ 薄膜.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

工藝簡(jiǎn)介:

該制造商采用雙離子輔助鍍制 Al₂O₃ 薄膜, 其中一個(gè)離子源（KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380）主要是用于產(chǎn)生高能氬離子束轟擊靶材, 通過動(dòng)量傳遞使靶材原子獲得足夠的動(dòng)能而脫離靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉積而形成一層薄膜;

另一個(gè)輔助離子源（KRI 考夫曼離子源 KDC100）通入氧氣和氬氣的混合氣體, 通過對(duì)生長(zhǎng)中的薄膜的轟擊, 使得薄膜進(jìn)一步致密, 同時(shí)改善薄膜的化學(xué)計(jì)量比.

伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術(shù)參數(shù)：

* 可選: 可調(diào)角度的支架

其工作示意圖如下:

運(yùn)行結(jié)果:

1. 制備的薄膜在中紅外波段具有高的折射率和低的消光系數(shù), 光滑的表面特性和極低的表面散射耗損, 在2.7μm波段沒有發(fā)現(xiàn)由于水吸收導(dǎo)致的消光系數(shù)的增大；

2. 制備的反射膜在2.7 μm反射率達(dá)到了99.63%, 接近于理論計(jì)算值；

3. 鍍制的Al2O3 薄膜具有優(yōu)良的環(huán)境穩(wěn)定性.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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