該制造商的離子束濺射鍍膜組成系統主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺、真空氣路系統以及控制系統等部分組成.

離子源濺射離子源采用進口的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380, 其參數如下:

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數：

推薦理由：

1. 聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率

2. 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染

其真空氣路系統真空系統需要沉積前本底真空抽到 8×10^-4 Pa, 經推薦采用伯東泵組  Hicube 80 Pro, 其技術參數如下：

分子泵組 Hicube 80 Pro 技術參數:

運行結果：

1. SiO_2薄膜沉積速率比以前更加快速
2. 薄膜均勻性明顯提高
3. 成膜質量高、膜層致密、缺陷少

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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