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產品描述

Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 具有良好的均勻性和高蝕刻率, 均勻度 < ±5%, 刻蝕速率 >10 nm/min, 具有高冷卻效果.

所有流程全自動減少人工操作, 從而保證了產品的無差錯、高穩定性和高質量.

占用空間小, 容易維護和用戶操作友好.

Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 產品優勢：

1. 所有流程全自動減少人工操作, 從而保證了產品的無差錯、高穩定性和高質量

2. 盒式房間采用**微粒過濾器

3. 采用高質量的蝕刻考夫曼離子源, 保證良好的均勻性和高蝕刻率

4. 占用空間小

5. 傳輸系統采用了 SCARA 型機器人

6. 控制單元系統提供操作通過觸摸屏/ 10.4英寸, 數據記錄可以顯示在屏幕上

7. 高冷卻效果

8. 良好的重復性和再現性的旋轉和傾斜階段具有良好的可重復性利用脈沖電動機

9. 容易維護這個系統設計重點是容易維護和用戶友好

10. 關鍵部件服務伯東的經銷商是系統中的關鍵部件渦輪泵系統、離子源提供客戶快速響應時間和本地服務能力,減少停機時間的工具

Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 技術參數：

Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 技術參數:

portant;">Model		portant;">MEL3100	portant;">	portant;">Main body
portant;">Wafer size		portant;">3"～6"	portant;">	portant;">Power Supply	portant;">AC200V 3ph 40A
portant;">Wafer per batch		portant;">1 wafer	portant;">	portant;">Power Supply	portant;">*two lines
portant;">Cassette	portant;">No.	portant;">25 wafers	portant;">	portant;">Cooling Water	portant;">15 (l/min)
portant;">Cassette	portant;">Q'ty	portant;">1pc.	portant;">	portant;">Cooling Water	portant;"><20℃
portant;">Throughput		portant;">10 (wafer/hr) *1	portant;">	portant;">CDA	portant;">0.5 (MPa)
portant;">Pressure	portant;">Ultimate	portant;">8×10-5 (Pa) *2	portant;">	portant;">CDA	portant;">>10 (l/min)
portant;">Pressure	portant;">Process	portant;">2×10-2 (Pa) *2	portant;">	portant;">N2	portant;">0.2 (MPa)
portant;">Etching	portant;">Rate	portant;">>10 (nm/min)@SiO2 *3	portant;">	portant;">N2	portant;">>40 (l/min)
portant;">Etching	portant;">Uniformity	portant;">±5%@132mm (6") *3	portant;">	portant;">Ar	portant;">0.2 (MPa)
portant;">Wafer surface temp.		portant;"><100℃ *3	portant;">	portant;">Ar	portant;">20 (sccm)
portant;">Stage rotating		portant;">1～20 (rpm) ±5%	portant;">	portant;">He	portant;">0.2 (MPa)
portant;">Stage tilting		portant;">±90°±0.5°	portant;">	portant;">He	portant;">20 (sccm)
portant;">Dimension W×D×H (mm)	portant;">Main body	portant;">1,600×2,175×1,900	portant;">	portant;">*need additional utilities for Dry pump
	portant;">Co***oller	portant;">640×610×1,900	portant;">	portant;">*need additional utilities for Dry pump
	portant;">Chiller	portant;">555×515×1,025	portant;">	portant;">	portant;">
portant;">Weight (kg)	portant;">Main body	portant;">1,700	portant;">	portant;">	portant;">
	portant;">Co***oller	portant;">200	portant;">	portant;">	portant;">
	portant;">Chiller	portant;">100	portant;">	portant;">	portant;">
portant;">*1: Estimated process time 5min			portant;">	portant;">	portant;">
portant;">*2: No wafer on stege / process chamber			portant;">	portant;">	portant;">
portant;">*3: Depending on process