顆粒粒徑分析儀是一種用于測量和分析顆粒物體的粒徑（尺寸）分布的儀器。它可以應(yīng)用于不同領(lǐng)域，如材料科學、環(huán)境監(jiān)測、食品工業(yè)、制藥等。

顆粒粒徑分析儀可以使用多種測量原理進行粒徑分析，其中常見的包括：
1、激光散射原理：通過激光束照射到樣品上，測量散射光的角度和強度變化，從而計算出顆粒的粒徑分布。
2、動態(tài)光散射原理：利用顆粒在液體或氣體中的擴散運動，通過測量光散射的強度和時間變化，計算出粒徑分布。
3、圖像分析原理：基于圖像處理技術(shù)，通過拍攝顆粒的圖像并分析其形狀和大小，得出粒徑分布。

測量范圍：
測量范圍依賴于樣品和儀器。對于金樣品，顆粒跟Z技術(shù)的檢測下限為10nm；相應(yīng)的，如果樣品的散射能力較弱，則檢測下限會變得更大。假如樣品穩(wěn)定，不會沉淀或漂浮，zeta電位測量的粒徑上限為50微米，對于粒徑測量為3微米。

顆粒粒徑分析儀通常具有以下特點：
1、快速高效：能夠快速地測量大量顆粒，并生成粒徑分布曲線或報告。
2、寬尺寸范圍：能夠測量不同粒徑范圍的顆粒，從納米級到幾毫米甚至更大。
3、自動化功能：一些顆粒粒徑分析儀配備自動進樣和數(shù)據(jù)處理功能，提高操作效率和減少人為誤差。
4、多種參數(shù)測量：除了粒徑，還可以測量顆粒的形狀、濃度、表面電荷等參數(shù)。

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