CR-2000HG鍍鉻走位劑

CR-2000HG鍍鉻走位劑是新一代高分散性能快速裝飾鉻以及硬鉻添加劑，適用于形狀比較復(fù)雜的工件及對(duì)鍍層平整度有要求的工件，減少漏鍍及提高鍍層平整度，分散能力和均鍍能力很好，溫度范圍寬，哈氏試片7cm以上，可以應(yīng)用于形狀較復(fù)雜的裝飾鉻及電鍍硬鉻等行業(yè)。

一、CR-2000HG鍍鉻走位劑的技術(shù)特點(diǎn)

1、鍍層光亮

2、深鍍能力強(qiáng)，HULL槽試片可覆蓋7厘米

3、電流效率高，可達(dá)22%

4、硬度高 ≥HV900

5、該工藝既可以用于電鍍硬鉻，也可用于電鍍裝飾鉻

1. 不含氟，不腐蝕陽(yáng)極

   二、CR-2000HG走位劑工藝參數(shù)

   鉻酸      230克/升

   硫酸      1.3-1.6克/升

   三價(jià)鉻    2克/升

   CR-2000HG-L鍍鉻催化劑  20毫升/升，CR-2000HG-S鍍鉻走位劑 3克/升

   溫度      45-60℃

   電流密度  10-60安培/平方分米

   沉積速度  10-55微米/小時(shí)

   三、設(shè)備要求

   鍍槽：鐵槽內(nèi)襯軟PVC或其他認(rèn)可材料。

   陽(yáng)極：含錫7-10%鉛錫陽(yáng)極或其它認(rèn)可材料。

   整流器：輸出電壓可達(dá)9-16伏較適宜輸出電流波紋率最好在5%以下

   溫度控制：采用電加熱或換熱器（鈦管或金屬披覆聚四氟乙烯）。

   四、轉(zhuǎn)缸及前處理

   傳統(tǒng)的鍍鉻液轉(zhuǎn)為本工藝較簡(jiǎn)單，將鍍液送交本公司化驗(yàn)，確認(rèn)無機(jī)雜質(zhì)小于7.5克/升。工藝的前處理同一般傳統(tǒng)鍍鉻相同無需特殊處理。

   五、槽液維護(hù)

   日常維護(hù)每消耗50公斤鉻酐添加4-6升CR-2000HG-L鍍鉻催化劑 ， 1公斤CR-2000HG-S鍍鉻走位劑