1、陽極氧化鋁板氧化膜生成的一般原理：

以鋁板為陽極置于電解質(zhì)溶液中，利用電解作用，使其表面形成氧化鋁薄膜的過程，稱為鋁板的陽極氧化

處理。其裝置中陰極為在電解溶液中化學穩(wěn)定性高的材料，如鉛、不銹鋼、鋁等。鋁陽極氧化的原理實質(zhì)上就

是水電解的原理。當電流通過時，在陰極上，放出氫氣;在陽極上，析出的氧不僅是分子態(tài)的氧，還包括原子氧

(O)和離子氧，通常在反應(yīng)中以分子氧表示。作為陽極的鋁被其上析出的氧所氧化，形成無 水的氧化鋁膜，生

成的氧并不是全部與鋁作用，一部分以氣態(tài)的形式析出。

2、陽極氧化鋁板氧化電解溶液的選擇：

陽極氧化膜生長的一個先決條件是，電解液對氧化膜應(yīng)有溶解作用。但這并非說在所有存在溶解作用的電

解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質(zhì)相同。

3、陽極氧化鋁板氧化的種類：

陽極氧化按電流形式分為：直流電陽極氧化，交流電陽極氧化，脈沖電流陽極氧化。按電解液分有：硫酸

、草酸、鉻酸、 混合酸和以磺基有機酸為主溶液的自然著色陽極氧化。按膜層性子分有：普通膜、硬質(zhì)膜(厚

膜)、瓷質(zhì)膜、光亮修飾層、半導體作用的阻擋層等陽極氧化。鋁及鋁 合金常用陽極氧化方法和工藝條件見

表-5。其中以直流電硫酸陽極氧化法的應(yīng)為普遍。

4、陽極氧化鋁板氧化膜結(jié)構(gòu)、性質(zhì)：

陽極氧化膜由兩層組成，多孔的厚的外層是在具有介電性質(zhì)的致密的內(nèi)層上上成長起來的，后者稱為阻擋

層(也稱活性層)。用電子顯微鏡觀察研究，膜層的縱橫面幾乎全都呈現(xiàn)與金屬表面垂直的管狀孔，它們貫穿膜

外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是致密的氧化鋁構(gòu)成一 個蜂窩六棱體，稱為晶胞，

整個膜層是又無數(shù)個這樣的晶胞組成。阻擋層是又無水的氧化鋁所組成，薄而致密，具有高的硬度和阻止電流

通過的作用。阻擋層厚約 0.03-0.05μm，為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層主要是又非晶型的氧化鋁

及小量的水合氧化鋁所組成，此外還含有電解液的陽離子。 當電解液為硫酸時，膜層中硫酸鹽含量在正常情況

下為13%-17%。氧化膜的大部分優(yōu)良特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決定的，它們都與陽極氧化條 件

密切相關(guān)。